該項(xiàng)目位于洛陽(yáng)市吉利區(qū)石化產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)，列入河南省和洛陽(yáng)市重點(diǎn)工程。項(xiàng)目實(shí)際總投資2.6億元，占地3.58萬平方米，新建三氟化氮粗品電解車間、自動(dòng)化連續(xù)充裝潔凈車間以及相關(guān)輔助設(shè)施。

 據(jù) 了解，該項(xiàng)目是國(guó)內(nèi)第一家中外合資三氟化氮項(xiàng)目，采用黎明院自主研發(fā)的處于國(guó)際先進(jìn)水平的新型電解技術(shù)生產(chǎn)三氟化氮，與化學(xué)法相比具有工藝連續(xù)性良好、生 產(chǎn)成本易于控制、產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定、安全可靠、雜質(zhì)少等顯著優(yōu)點(diǎn)，其產(chǎn)品指標(biāo)達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。在此基礎(chǔ)上，引進(jìn)韓國(guó)投資方先進(jìn)的電子氣體充裝系統(tǒng)和檢測(cè)設(shè) 備，在先進(jìn)的生產(chǎn)工藝上實(shí)現(xiàn)了強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合。

 業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為，該項(xiàng)目是國(guó)內(nèi)加大關(guān)鍵電子氣體研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化力度，并達(dá)到國(guó)產(chǎn)化和規(guī)?；闹匾晒瑵M足國(guó)內(nèi)外相關(guān)領(lǐng)域的發(fā)展需求，對(duì)保障國(guó)家經(jīng)濟(jì)安全和增強(qiáng)綜合國(guó)力具有重大戰(zhàn)略意義。

 目前，該項(xiàng)目已滿負(fù)荷生產(chǎn)，已和京東方、華星光電、熊貓電子、LG、三星、漢能、美國(guó)TI、臺(tái)灣華亞科、臺(tái)灣群創(chuàng)等知名半導(dǎo)體和液晶面板生產(chǎn)商達(dá)成合作意向，并已成功通過測(cè)試、驗(yàn)廠和批量供貨，獲得客戶的贊譽(yù)。 

 黎 明院是從事氟化物研發(fā)的重點(diǎn)單位，早在1996年便開始三氟化氮工藝技術(shù)的研究，研發(fā)的三氟化氮技術(shù)與產(chǎn)品處于國(guó)際先進(jìn)水平，韓國(guó)大成氣體株式會(huì)社是一家 位于韓國(guó)的綜合氣體供應(yīng)商，主要客戶為L(zhǎng)G、三星、現(xiàn)代等韓資企業(yè)，擁有成熟完善的分銷網(wǎng)絡(luò)。雙方通過這一項(xiàng)目實(shí)現(xiàn)了技術(shù)與市場(chǎng)的強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合，加快推進(jìn)黎明 院從含氟工業(yè)氣體生產(chǎn)向含氟電子特種氣體轉(zhuǎn)型升級(jí)的戰(zhàn)略目標(biāo)，將成為黎明院未來五年的產(chǎn)業(yè)支柱。

譜源氣體作為專業(yè)氣體廠家，三氟化氮也是主營(yíng)氣體，相關(guān)三氟化氮產(chǎn)品技術(shù)：

分子式：NF3。
基本性質(zhì):氣 體分子量：71.01，熔點(diǎn)：–206.8℃（1atm），沸點(diǎn)：–129℃（1atm），臨界溫度：–39.3℃，臨界壓 力：44.02atm（4.46MPa），液體密度：1554 kg/m3（1atm，沸點(diǎn)時(shí)），氣體密度：2.95 kg/m3（1atm,21℃），水中溶解度（1atm，22℃）：1.43×10-5當(dāng)量濃度。純凈的NF3氣體是一種無色無味的氣體，當(dāng)混入一定量的 雜質(zhì)氣體后顏色發(fā)黃，同時(shí)會(huì)有發(fā)霉或刺激性氣味。NF3氣體不可燃，但能助燃。當(dāng)溫度超過350℃時(shí)，三氟化氮?dú)怏w會(huì)緩慢分解，分解時(shí)產(chǎn)生強(qiáng)氧化性氟，因 此，在高溫下它是一種強(qiáng)氧化劑。
CAS No.：7783-54-2。
UN UN.：2451
危險(xiǎn)性類別：第2.3類有毒氣體，在空氣中的最高允許含量為29mg/m3。
產(chǎn)品純度: 99.99%~99.995%
產(chǎn)品包裝:47L專用鋼瓶,22kg/瓶;40L專用鋼瓶,20kg/瓶;8L專用鋼瓶,3.4kg/瓶;鋼瓶標(biāo)準(zhǔn)：DOT-3AA, GB5099；閥門：CGA330、CGA640
產(chǎn)品用途:三 氟化氮是用作氟化氫－氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應(yīng)能的有效部分（約25％）可以以激光輻射釋放出，所HF-OF激光器是化學(xué)激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等 離子蝕刻氣體，對(duì)硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對(duì)表面無污染，尤其是在厚度小于 1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時(shí)也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術(shù)的 發(fā)展和電子工業(yè)大規(guī)模的發(fā)展技術(shù)，它的需求量將日益增加。
注意事項(xiàng):如遇有NF3氣體泄露，工作人員要馬上 撤離泄漏污染區(qū)，并盡可能采取措施阻止NF3氣體的進(jìn)一步泄露。如有工作人員中毒，應(yīng)立即送往醫(yī)院救治。泄露現(xiàn)場(chǎng)要盡快處理，處理泄露現(xiàn)場(chǎng)的工作人員必須 配戴必要的防毒面具，最好是自給正壓式呼吸器。泄露現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)檢測(cè)無危害氣體后方可進(jìn)入工作人員，泄露容器必須經(jīng)仔細(xì)檢查、維修或妥善處理好后方可繼續(xù)使用。 NF3氣瓶應(yīng)儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)倉(cāng)庫(kù)內(nèi)，倉(cāng)庫(kù)溫度不宜超過30℃。NF3氣瓶應(yīng)遠(yuǎn)離火種、熱源、防止陽(yáng)光直射，與還原劑、易燃或可燃物等分開存放。NF3氣 瓶在搬運(yùn)時(shí)要輕裝、輕卸，防止鋼瓶及附件破損。NF3氣瓶的運(yùn)輸按危險(xiǎn)品運(yùn)輸。運(yùn)輸時(shí)用氣瓶固定架將NF3氣瓶固定好，用汽車公路運(yùn)輸或用輪船集裝箱運(yùn) 輸。