如今電子產(chǎn)品的使用日漸普及，三氟化氮等特種氣體消耗量增長迅猛。但以美、日、韓為代表的主要生產(chǎn)國，利用產(chǎn)業(yè)鏈的主導(dǎo)優(yōu)勢，以戰(zhàn)略物資為由對中國進(jìn)口三氟化氮進(jìn)行嚴(yán)格控制，嚴(yán)重制約了我國半導(dǎo)體、信息等產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。在這種情況下，七一八所著手對這個(gè)項(xiàng)目的科研攻關(guān)。七一八所對三氟化氮?dú)怏w的研制最早可追溯到20世紀(jì)80年代初期，初期僅作為一種實(shí)驗(yàn)用氣，年產(chǎn)只有數(shù)十公斤，而且純度較低?！笆濉背跗?，為破解壟斷危機(jī)搶抓市場機(jī)遇，七一八所果斷組建特種氣體工程部，立項(xiàng)開展高純?nèi)胤N氣體及其生產(chǎn)工藝的研究。“十五”中期，七一八所自籌研發(fā)經(jīng)費(fèi)300多萬元，成功開發(fā)出高純?nèi)娮犹胤N氣體，填補(bǔ)了國內(nèi)空白， 2005年建成目前國內(nèi)唯一的年產(chǎn)300噸的生產(chǎn)線，產(chǎn)品在國內(nèi)幾乎所有半導(dǎo)體、液晶、太陽能行業(yè)成功應(yīng)用，打破了日美的技術(shù)壟斷，完全替代進(jìn)口，并出口美國、日本、法國、德國、新加坡等發(fā)達(dá)國家。2015年8月，七一八所年產(chǎn)1500噸三氟化氮特種電子氣體生產(chǎn)線建設(shè)完成并投入運(yùn)行，當(dāng)年實(shí)現(xiàn)銷售收入3億多元，為國內(nèi)企業(yè)節(jié)省40多億元的支出。

在這種情況下，七一八所著手對這個(gè)項(xiàng)目的科研攻關(guān)。七一八所對三氟化氮?dú)怏w的研制最早可追溯到20世紀(jì)80年代初期，初期僅作為一種實(shí)驗(yàn)用氣，年產(chǎn)只有數(shù)十公斤，而且純度較低?！笆濉背跗冢瑸槠平鈮艛辔C(jī)搶抓市場機(jī)遇，七一八所果斷組建特種氣體工程部，立項(xiàng)開展高純?nèi)胤N氣體及其生產(chǎn)工藝的研究?！笆濉敝衅?，七一八所自籌研發(fā)經(jīng)費(fèi)300多萬元，成功開發(fā)出高純?nèi)娮犹胤N氣體，填補(bǔ)了國內(nèi)空白， 2005年建成目前國內(nèi)唯一的年產(chǎn)300噸的生產(chǎn)線，產(chǎn)品在國內(nèi)幾乎所有半導(dǎo)體、液晶、太陽能行業(yè)成功應(yīng)用，打破了日美的技術(shù)壟斷，完全替代進(jìn)口，并出口美國、日本、法國、德國、新加坡等發(fā)達(dá)國家。2015年8月，七一八所年產(chǎn)1500噸三氟化氮特種電子氣體生產(chǎn)線建設(shè)完成并投入運(yùn)行，當(dāng)年實(shí)現(xiàn)銷售收入3億多元，為國內(nèi)企業(yè)節(jié)省40多億元的支出。

高純三氟化氮特種氣體快速發(fā)展的同時(shí)，七一八所積極跟蹤國際氟化工前沿技術(shù)，加大探索新技術(shù)研發(fā)新產(chǎn)品的步伐，他們先后立項(xiàng)開展六氟化鎢、三氟甲磺酸系列產(chǎn)品等20多種高純特種氣體的研發(fā)工作，陸續(xù)投資5600多萬元，累計(jì)獲得國撥資金3200萬元，開發(fā)出氘氣、六氟化鎢、三氟甲磺酸、三氟甲磺酸酐等新產(chǎn)品，取得專利18項(xiàng)，市場前景廣闊，正在擴(kuò)大產(chǎn)能。 為進(jìn)一步做大特種氣體產(chǎn)業(yè)，抓住國家拉動內(nèi)需、發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)的有利時(shí)機(jī)，按照國家發(fā)布的重點(diǎn)支持領(lǐng)域，由七一八所牽頭聯(lián)合申報(bào)的國家民口重大科技“02專項(xiàng)”——“高純電子氣體研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”于2013年1月成功立項(xiàng)，列入國家“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”重點(diǎn)專項(xiàng)。

目前，七一八所生產(chǎn)的三氟化氮產(chǎn)品國外市場已進(jìn)入全球用戶的30%；國內(nèi)市場已進(jìn)入90%以上的用戶。六氟化鎢產(chǎn)品國際市場已進(jìn)入全球用戶的30%；國內(nèi)市場已進(jìn)入90%以上的用戶。七一八所將繼續(xù)加大創(chuàng)新力度，研發(fā)更多拳頭產(chǎn)品，為邯鄲市經(jīng)濟(jì)發(fā)展做出更大貢獻(xiàn)。

譜源氣體專業(yè)供應(yīng)高純?nèi)?，氣體熱線：13711176807

分子式：NF3。
  基本性質(zhì):氣體分子量：71.01，熔點(diǎn)：–206.8℃（1atm），沸點(diǎn)：–129℃（1atm），臨界溫度：–39.3℃，臨界壓  力：44.02atm（4.46MPa），液體密度：1554 kg/m3（1atm，沸點(diǎn)時(shí)），氣體密度：2.95 kg/m3（1atm,21℃），水中溶解度（1atm，22℃）：1.43×10-5當(dāng)量濃度。純凈的NF3氣體是一種無色無味的氣體，當(dāng)混入一定量的雜質(zhì)氣體后顏色發(fā)黃，同時(shí)會有發(fā)霉或刺激性氣味。NF3氣體不可燃，但能助燃。當(dāng)溫度超過350℃時(shí)，三氟化氮?dú)怏w會緩慢分解，分解時(shí)產(chǎn)生強(qiáng)氧化性氟，因此，在高溫下它是一種強(qiáng)氧化劑。
CAS No.：7783-54-2。
UN UN.：2451
危險(xiǎn)性類別：第2.3類有毒氣體，在空氣中的最高允許含量為29mg/m3。
產(chǎn)品純度: 99.99%~99.995%
產(chǎn)品包裝:47L專用鋼瓶,22kg/瓶;40L專用鋼瓶,20kg/瓶;8L專用鋼瓶,3.4kg/瓶;鋼瓶標(biāo)準(zhǔn)：DOT-3AA, GB5099；閥門：CGA330、CGA640
產(chǎn)品用途:三氟化氮是用作氟化氫－氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應(yīng)能的有效部分（約25％）可以以激光輻射釋放出，所HF-OF激光器是化學(xué)激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時(shí)也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術(shù)的發(fā)展和電子工業(yè)大規(guī)模的發(fā)展技術(shù)，它的需求量將日益增加。